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对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且较终沉积在基片表面,经历成膜过程,较终形成薄膜。
溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
以pld为例,因素主要有:
靶材与基片的晶格匹配程度
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